반도체 제조 8대 공정 중 '이온 주입' 과정
이온 주입(Ion Implantation)은 반도체 제조 과정에서 웨이퍼에 특정 불순물을 주입하여 전기적 특성을 조절하는 중요한 단계입니다. 이 과정을 쉽게 이해할 수 있도록 단계별로 설명하겠습니다. 이온 주입 과정의 단계 1. **웨이퍼 준비**: - 이온 주입을 하기 전, 웨이퍼는 깨끗하게 세척되어 있어야 합니다. 웨이퍼는 주로 순수한 실리콘으로 만들어집니다. 2. **이온 주입 장비 준비**: - 이온 주입은 고도로 특화된 장비에서 이루어집니다. 이 장비는 진공 상태를 유지하면서 고속으로 이온을 가속하여 웨이퍼에 주입합니다. 3. **이온 소스 선택**: - 이온 주입을 위해 주입할 불순물(도핑 물질)을 선택합니다. 주로 사용하는 도핑 물질은 보론(Boron, P형 도핑)과 인(Ph..
2024.06.19